Моделирование источников EUV-излучения с учетом детальной кинетики, включенной in-line в программу радиационной газодинамики

Построена модель нестационарной неравновесной излучающей плазмы с учетом поуровневой кинетики и переноса излучения в спектральных линиях. Проведено моделирование разлета и излучения сферической мишени в результате воздействия на нее лазерного импульса. Реализовано численное решение уравнений двухтемпературной 1D-газодинамики в лагранжевой форме. Поле излучения и поуровневая кинетика учитываются самосогласованным образом с применением двух методик: с использованием интерполяции между заранее рассчитанными таблицами спектральных данных и путем включения кинетики in-line в г/д расчет. Получены оценки эффективности конверсии в EUV-излучение для плазмы лития и олова. Данная задача имеет важное прикладное значение для EUV-литографии, применяемой при производстве микрочипов. Полученные результаты для эффективности конверсии при оптимальных параметрах лазерного импульса составляют для лития $\sim1\%$ и для олова $\sim5\%$, что находится в согласии с экспериментальными данными.