Перенос голографической структуры со слоев бихромированного желатина на подложку на основе полиметилметакрилата

Показана возможность переноса голографической структуры, первоначально зарегистрированной на слоях бихромированного желатина (БХЖ), на материал подложки из полиметилметакрилата (ПММА). В основе механизма образования вторичной рельефно-фазовой голографической структуры на поверхности ПММА лежит использование избирательного деструктивного воздействия коротковолнового УФ излучения с длиной волны менее 270 nm. Осуществлены оптимизация режимов обработки и подбор проявляющих составов на основе изопропанола и метилизобутилкетона (МИБК), что позволило создать на подложках из ПММА рельефно-фазовые голографические решетки с высокой дифракционной эффективностью (ДЭ) около 25% и максимальной глубиной поверхностного рельефа порядка 1 $\mu$m.