Аннотация:
Показана возможность копирования высокочастотных дифракционных решеток, полученных в слое фоторезиста, на стеклянные подложки с помощью полимерных композиций (ОКМ и Техновит) и проведен их сравнительный анализ. В основе механизма копирования рельефно-фазовой структуры лежит двухэтапный процесс, заключающийся в получении никелевой мастер-детали с последующим нанесением на нее полимерной композиции и ее отверждением под воздействием УФ излучения. Осуществлена оптимизация режимов копирования (время, экспозиция, толщина полимерной основы), что позволило получить рельефно-фазовые дифракционные решетки с глубиной поверхностного рельефа, сопоставимой с исходной структурой, полученной в слое фоторезиста. Проведена оценка дифракционной эффективности полученных решеток, а также оценка изменения глубины поверхностного рельефа полимерных копий, полученных с одной мастер-детали.