Электрон-фононное взаимодействие центров окраски с бесфононной линией 436.55 nm в кристаллах LiF–O, OH

Измерены спектры поглощения при температурах 7.2–300 K $\gamma$-облученного и подвергнутого УФ излучению кристалла LiF с примесью кислорода и гидроксила. Определена сила связи (S) с фононами решетки электронно-колебательного перехода с бесфононной линией 436.55 nm по соотношению интенсивностей бесфононной линии и вибронной полосы поглощения. На основании величины $S$ предложена природа центра окраски, ответственного за полосу поглощения 390 nm и излучение 490 nm.