RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Проблемы физики, математики и техники // Архив

ПФМТ, 2010, выпуск 2(3), страницы 80–82 (Mi pfmt158)

ТЕХНИКА

Study of the preparation CuO and boron films

[Изучение процесса формирования покрытий бора и оксида меди]

Zhu Penga, N. N. Fedosenkob, D. G. Piliptsovb, R. V. Bekarevichb

a Nanjing University of Science and Technology, Nanjing, China
b F. Skorina Gomel State University, Gomel

Аннотация: В представленной статье рассматриваются покрытия бора и оксида меди, осажденные c помощью распыляющего ионного источника. Скорость осаждения покрытий варьировалась от 11 до 11.8 нм/мин. Морфология и состав исследовались с помощью атомно-силовой микроскопии и рентгеноструктурного анализа. Данные исследования показали, что борные покрытия имеют более однородную структуру по сравнению с покрытиями оксида меди.

Ключевые слова: атомно-силовая микроскопия, бор, распыляющий ионно-лучевой источник, процесс горячего изо-статического прессования, рентгеноструктурный анализ.

УДК: 546.26

Поступила в редакцию: 10.06.2010

Язык публикации: английский



© МИАН, 2024