В. В. Хорошко, “Маршрут производства фотопреобразователей на основе тонких пленок халькогенидов”, ПФМТ, 2016, выпуск 3(28),страницы 23

ФИЗИКА

Маршрут производства фотопреобразователей на основе тонких пленок халькогенидов

В. В. Хорошко

Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники, Минск

Аннотация: Приведён и обоснован маршрут производства тонкопленочных фотопреобразователей. Данный маршрут позволяет выполнить требования к качеству получаемых материалов конструкции Mo/поглощающая пленка/CdS/ZnO/Al-Ni.

Ключевые слова: тонкие пленки, фотопреобразователь, физические характеристики, эффективность.

УДК: 621.315.592

Поступила в редакцию: 23.06.2016