Исследование влияния электрических параметров импульсного источника питания СВЧ магнетрона на режимы генерации плазмы СВЧ разряда

Изучено влияние электрических режимов управляемого импульсного инверторного источника электропитания СВЧ магнетрона на условия генерации плазмы СВЧ разряда большого объёма (около 9000 см$^3$) в крупногабаритной камере СВЧ плазмотрона резонаторного типа. Исследовано влияние параметров анодного тока в цепи электропитания СВЧ магнетрона на оптические характеристики СВЧ разряда. Проведен сравнительный анализ оптических характеристик формируемого в импульсном и непрерывном режиме генерации СВЧ разряда в зависимости от выходной мощности источника электропитания СВЧ магнетрона. Установлено, что уменьшение скважности между пачками импульсов анодного тока и последующий переход к постоянному режиму приводит к непропорциональному увеличению энерговклада в плазму СВЧ разряда.