Радиационно-стимулированная диффузия атомов в контакте металл–полупроводник

Рассмотрены некоторые теоретические предпосылки управления свойствами системы металл–полупроводник путем одновременного действия облучения и напряжения. В основу рассмотрения положен механизм, в котором существенную роль в процессе радиационно-стимулированной диффузии играет наличие электрического поля. Этот эффект использован для формирования свойств и управления качеством контакта металл–полупроводник при одновременном воздействии ионизирующей радиации и приложенного напряжения.