RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1985, том 19, выпуск 6, страницы 1156–1158 (Mi phts1283)

Краткие сообщения

Оценка профиля распределения степени окисления кремния в переходных слоях Si$-$SiO$_{2}$

Х. С. Далиев, А. А. Лебедев, В. Экке




© МИАН, 2025