RUS
ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ
// Физика и техника полупроводников
// Архив
Физика и техника полупроводников,
1985
, том 19,
выпуск 6,
страницы
1156–1158
(Mi phts1283)
Краткие сообщения
Оценка профиля распределения степени окисления кремния в переходных слоях Si
$-$
SiO
$_{2}$
Х. С. Далиев
,
А. А. Лебедев
, В. Экке
Полный текст:
PDF файл (428 kB)
©
МИАН
, 2025