RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1984, том 18, выпуск 7, страницы 1306–1307 (Mi phts1861)

Краткие сообщения

Влияние высокого давления на состояние оптически активного кислорода в кремнии при термообработке

Ю. Ф. Шульпяков, Р. Ф. Витман, А. А. Лебедев, А. Н. Дремин




© МИАН, 2025