RUS
ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ
// Физика и техника полупроводников
// Архив
Физика и техника полупроводников,
1984
, том 18,
выпуск 7,
страницы
1306–1307
(Mi phts1861)
Краткие сообщения
Влияние высокого давления на состояние оптически активного кислорода в кремнии при термообработке
Ю. Ф. Шульпяков
, Р. Ф. Витман
,
А. А. Лебедев
, А. Н. Дремин
Полный текст:
PDF файл (279 kB)
©
МИАН
, 2025