RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2021, том 55, выпуск 12, страницы 1156–1161 (Mi phts4910)

Эта публикация цитируется в 1 статье

XVII Межгосударственная конференция ''Термоэлектрики и их применения -- 2021" (ISCTA 2021 Санкт-Петербург, 13-16 сентября, 2021)

Синтез, структура и анизотропия термоэлектрических свойств соединения Bi$_{2}$Te$_{2.7}$Se$_{0.3}$, легированного самарием

М. Н. Япрынцевa, О. Н. Ивановb, А. Е. Васильевa, М. В. Жежуa, Д. А. Попковa

a Белгородский государственный технологический университет имени В. Г. Шухова
b Белгородский государственный национальный исследовательский университет

Аннотация: Исследованы кристаллографически текстурированные термоэлектрические материалы с электронным типом проводимости на основе теллурида висмута, легированного самарием (Bi$_{2-x}$Sm$_{x}$Te$_{2.7}$Se$_{0.3}$, где $x$ = 0, 0.05, 0.02, 0.05), полученные методом сольвотермального синтеза и двукратного прессования методом искрового плазменного спекания. Кристаллографическая текстура достигалась путем искрового плазменного спекания пластинчатых наночастиц исходного порошка. Ось текстурирования [001] совпадала с направлением прессования в процессе искрового плазменного спекания. Увеличение концентрации самария приводит к уменьшению радиального размера синтезируемых наночастиц, что обеспечивает облегчение процессов вращения и скольжения частиц относительно друг друга в процессе прессования и, как следствие, к увеличению фактора анизотропии, характеризующего степень предпочтительной ориентации зерен в объемном материале. Легирование самарием влияет на размер частиц исходного порошка, средний размер зерна в объемном материале и термоэлектрические свойства образцов. Установлено, что максимум термоэлектрической добротности слабо зависит от содержания самария и попадает в интервал $\sim$ (0.6–0.7), тогда как температурное положение максимумов заметно смещается к более высоким температурам с увеличением содержания Sm.

Ключевые слова: термоэлектрические материалы, теллурид висмута, искровое плазменное спекание, текстурирование, анизотропия свойств.

Поступила в редакцию: 12.08.2021
Исправленный вариант: 28.08.2021
Принята в печать: 28.08.2021

DOI: 10.21883/FTP.2021.12.51699.16



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024