RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2021, том 55, выпуск 7, страницы 596–601 (Mi phts5015)

Физика полупроводниковых приборов

Влияние адгезионных слоев на плазмонное усиление фототока металлическими нанодисками в фотодетекторах ближнего ИК-диапазона на базе квантовых точек Ge/Si

А. И. Якимовab, В. В. Кириенкоa, А. А. Блошкинac, А. В. Двуреченскийac, Д. Е. Уткинac

a Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск
b Национальный исследовательский Томский государственный университет
c Новосибирский государственный университет

Аннотация: Разработаны планарные плазмонные фотодетекторы Ge/Si с квантовыми точками Ge на подложках кремний-на-изоляторе, сопряженные с регулярными массивами металлических нанодисков на их поверхности. Обнаружено, что введение адгезионных слоев, необходимых для формирования стабильных наноструктур из благородных металлов, ведет к подавлению поверхностного плазмонного резонанса. Выбор алюминиевых нанодисков, не требующих адгезионных слоев, позволяет повысить эффективность фотоприемников в 40 раз на длине волны 1.2 мкм и в 15 раз при $\lambda$ = 1.65 мкм.

Ключевые слова: локализованные поверхностные плазмоны, квантовые точки Ge/Si, фотоприемники.

Поступила в редакцию: 02.03.2021
Исправленный вариант: 12.03.2021
Принята в печать: 12.03.2021

DOI: 10.21883/FTP.2021.07.51025.9643


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2021, 55:8, 654–659

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024