RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2021, том 55, выпуск 4, страницы 373–387 (Mi phts5060)

Эта публикация цитируется в 5 статьях

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Формирование кремниевых нанокластеров при диспропорционировании моноокиси кремния

Д. А. Ложкина, Е. В. Астрова, Р. В. Соколов, Д. А. Кириленко, А. А. Левин, А. В. Парфеньева, В. П. Улин

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Изучены процессы диспропорционирования твердофазной моноокиси кремния, сопровождающиеся формированием нанокристаллических преципитатов кремния в среде аморфного субоксида SiO$_{x}$ (исходный состав SiO$_{0.9}$). На основе данных рентгенодифракционного анализа и просвечивающей электронной микроскопии прослежена динамика изменения количества, концентрации и размера фазовых выделений кремния при увеличении температуры изохронного отжига от 800 до 1200$^\circ$C. Обнаружено, что при монотонном увеличении общей массы выделившегося кремния число центров его кристаллизации в единице объема немонотонно зависит от температуры. Определены энергия активации диффузии атомов кремния в матрице SiO$_{x}$, $E_{a1}$ = 1.64 эВ, и энергия активации их переноса из образовавшихся преципитатов в ростовую среду SiO$_{x}$, $E_{a2}$ = 2.38 эВ. Впервые выявлена анизотропная деформация кристаллитов кремния, выделяющихся в процессе диспропорционирования SiO. Это явление связывается с различием удельных объемов разделяющихся фаз и анизотропией скорости роста кремниевых преципитатов, формирующихся в твердой аморфной среде.

Ключевые слова: кремниевые нанокластеры, моноокись кремния, процесс диспропорционирования.

Поступила в редакцию: 15.12.2020
Исправленный вариант: 21.12.2020
Принята в печать: 21.12.2020

DOI: 10.21883/FTP.2021.04.50743.9575


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2021, 55:4, 423–437

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024