RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2021, том 55, выпуск 3, страницы 286–288 (Mi phts5071)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Электроосаждение металлов на $p$-Si из водных электролитов

В. Н. Горяева, Р. А. Бисенгалиев

Калмыцкий государственный университет имени Б. Б. Городовикова, 358000 Элиста, Россия

Аннотация: Представлены особенности электрохимического осаждения металлических покрытий на $p$-Si и измерены свойства полученных металлических слоев. Исследована зависимость толщины обедненной области и внутреннего падения напряжения в ней от состава электролита и типа осаждаемого металла. Доказано влияние на свойства осадков, плотность тока и состав электролитов. Подбором предварительной обработки электролита и режима осаждения получены осадки металлов с приемлемой адгезией и малым продольным сопротивлением.

Ключевые слова: электрохимическое осаждение, $p$-Si, металлический слой, осаждение металлов.

Поступила в редакцию: 02.03.2020
Исправленный вариант: 22.10.2020
Принята в печать: 09.11.2020

DOI: 10.21883/FTP.2021.03.50611.9385


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2021, 55:3, 384–386

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024