RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2021, том 55, выпуск 2, страницы 103–111 (Mi phts5073)

Эта публикация цитируется в 13 статьях

Электронные свойства полупроводников

Магнитные свойства тонких эпитаксиальных слоев SiC, выращенных методом самосогласованного замещения атомов на поверхностях монокристаллического кремния

Н. Т. Баграевab, С. А. Кукушкинa, А. В. Осиповa, В. В. Романовc, Л. Е. Клячкинb, А. М. Маляренкоb, В. С. Хромовab

a Институт проблем машиноведения РАН, Санкт-Петербург, Россия
b Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
c Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого, Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Выполнен цикл экспериментальных исследований, а именно, проведены измерения и выполнен анализ полевых зависимостей статической магнитной восприимчивости в образцах тонких пленок монокристаллического SiC, выращенных на поверхностях (100), (110) и (111) монокристаллического Si методом согласованного замещения атомов за счет химической реакции Si с газом CO. В результате исследований в структурах SiC, выращенных на Si (110) и Si (111), обнаружено возникновение в слабых магнитных полях двух квантовых эффектов при комнатной температуре. Этими эффектами являются, во-первых, образование гистерезиса статической магнитной восприимчивости, а во-вторых, возникновение осцилляций Ааронова–Бома в полевых зависимостях статической магнитной восприимчивости. Первый эффект связывается нами с эффектом Мейснера–Оксенфельда, а второй – с присутствием в данных структурах под слоем SiC микродефектов в виде нанотрубок и микропор, формирующихся в процессе синтеза структур. В структурах SiC, выращенных на Si (100), эти эффекты обнаружены не были, что связывается нами с иным механизмом образования SiC на поверхности (100) Si.

Ключевые слова: карбид кремния на кремнии, дилатационные диполи, магнитная восприимчивость, диамагнетизм, эффект Ааронова–Бома.

Поступила в редакцию: 15.10.2020
Исправленный вариант: 24.10.2020
Принята в печать: 24.10.2020

DOI: 10.21883/FTP.2021.02.50493.9538


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2021, 55:2, 137–145

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024