RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2021, том 55, выпуск 2, страницы 209–214 (Mi phts5088)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Метод трехкомпонентной зонной плавки: моделирование концентрационного распределения компонентов в монокристаллах твердых растворов Ge–Si

З. А. Агамалиевab

a Бакинский государственный университет, Баку, Азербайджан
b Институт физики НАН Азербайджана, Баку, Азербайджан

Аннотация: Дана концепция и теоретическая основа метода трехкомпонентной зонной плавки для выращивания монокристаллов полупроводниковых твердых растворов с использованием затравок из составных компонентов. В пфанновском приближении решена задача аксиального концентрационного распределения компонентов в монокристаллах Ge–Si, выращенных при различных значениях операционных параметров, таких как длина расплавленной зоны и состав исходных макрооднородных стержней твердых растворов. Анализ полученных результатов определяет потенциал метода и оптимальные условия для выращивания монокристаллов с заданными однородным и градиентным составами во всем непрерывном ряду твердых растворов Ge–Si. Показана перспективность метода трехкомпонентной зонной плавки для выращивания монокристаллов полупроводниковых твердых растворов.

Ключевые слова: полупроводниковые твердые растворы, распределение компонентов, материал затравки.

Поступила в редакцию: 14.10.2020
Исправленный вариант: 19.10.2020
Принята в печать: 19.10.2020

DOI: 10.21883/FTP.2021.02.50512.9535


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2021, 55:2, 283–288

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024