RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2020, том 54, выпуск 8, страницы 753–765 (Mi phts5192)

Эта публикация цитируется в 4 статьях

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Взаимодействие фторуглерода с моноокисью кремния и процессы образования нанонитей SiC

Е. В. Астрова, В. П. Улин, А. В. Парфеньева, А. В. Нащекин, В. Н. Неведомский, М. В. Байдакова

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург

Аннотация: При изучении процессов термической карбонизации моноокиси кремния в присутствии нестехиометрического монофторида углерода было обнаружено, что повышение температуры отжига смесей порошков SiO и CF$_{x}$ в квазизамкнутом объеме до 1000$^\circ$С и выше ведет к выделению нитевидных нанокристаллов SiC. Проведенные исследования показали, что параллельно с известным процессом кристаллизации нанонитей SiC в результате взаимодействия паров SiO с угарным газом в их образовании принимает участие неописанное ранее взаимодействие СО с газофазным дифторидом кремния SiF$_{2}$. При температурах ниже 1200$^\circ$С эта реакция оказывается доминирующей, давая наибольший вклад в выход нанонитей SiC.

Ключевые слова: образование нанонитей (вискеров) карбида кремния, моноокись кремния, фторуглерод, газофазный дифторид кремния.

Поступила в редакцию: 06.04.2020
Исправленный вариант: 12.04.2020
Принята в печать: 12.04.2020

DOI: 10.21883/FTP.2020.08.49647.9402


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2020, 54:8, 900–911

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024