RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2020, том 54, выпуск 8, страницы 766–770 (Mi phts5193)

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Имплантация ионов кремния в сапфир: малые дозы

Н. Е. Белова, С. Г. Шемардов, С. С. Фанченко, Е. А. Головкова, О. А. Кондратьев

Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт", г. Москва

Аннотация: В результате ионной имплантации ионов кремния в сапфир и последующего высокотемпературного отжига в приповерхностной области сапфира наблюдаются преципитаты кремния и алюмосиликатов. Рентгеновские измерения методом сканирования обратного пространства показали наличие напряжения сжатия с деформацией -0.12% в нормальном направлении и напряжения растяжения с деформацией 0.2% в $R$-плоскости в этой области, что уменьшает несоответствие параметра решетки по отношению к кремнию (100) и может привести к повышению кристаллического качества эпитаксиальных пленок кремния, выращенных на таких модифицированных сапфировых подложках.

Ключевые слова: ионная имплантация, сапфир, наночастицы, преципитаты, рентгеновская дифрактометрия, рефлектометрия.

Поступила в редакцию: 08.04.2020
Исправленный вариант: 16.04.2020
Принята в печать: 16.04.2020

DOI: 10.21883/FTP.2020.08.49648.9405


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2020, 54:8, 912–915

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024