RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2020, том 54, выпуск 7, страницы 631–642 (Mi phts5205)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Поверхность, границы раздела, тонкие пленки

Первопринципное изучение реконструкций поверхности (001) полупроводников GaSb и InSb

А. В. Бакулинa, С. Е. Кульковаab

a Институт физики прочности и материаловедения СО РАН, Томск, Россия
b Национальный исследовательский Томский государственный университет

Аннотация: Методом проекционных присоединенных волн проведено изучение атомной и электронной структуры реконструкций с симметрией (2 $\times$ 4), (4 $\times$ 2), $c$(4 $\times$ 4) и (4 $\times$ 3) на поверхности (001) полупроводников GaSb и InSb. Показано, что в пределе обогащения катионами на поверхности GaSb(001) стабильной является реконструкция $\beta$2(2 $\times$ 4), тогда как $\alpha$2(2 $\times$ 4) имеет наименьшую энергию в случае InSb. В пределе обогащения Sb стабильной найдена реконструкция $c$(4 $\times$ 4) с тремя димерами сурьмы. Вблизи стехиометрического состава на поверхности GaSb(001) стабильными являются структуры $\alpha$(4 $\times$ 3) и $\beta$(4 $\times$ 3), что согласуется с экспериментальными данными. Обсуждается электронная структура реконструкций (4 $\times$ 3) с наименьшей поверхностной энергией. Выявлено слабое влияние химического состава катионов на структуру и локализацию поверхностных состояний при формировании структур (4 $\times$ 3). Установлена корреляция между поверхностной энергией некоторых реконструкций (4 $\times$ 2) и (2 $\times$ 4) и разницей атомных радиусов катионов и анионов.

Ключевые слова: полупроводники А$^{\mathbf{III}}$В$^{\mathbf{V}}$, поверхность (001), реконструкция поверхности, электронная структура.

Поступила в редакцию: 03.02.2020
Исправленный вариант: 26.02.2020
Принята в печать: 26.02.2020

DOI: 10.21883/FTP.2020.07.49503.9363


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2020, 54:7, 742–753

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024