RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2020, том 54, выпуск 6, страницы 533–541 (Mi phts5217)

Эта публикация цитируется в 4 статьях

Полупроводниковые структуры, низкоразмерные системы, квантовые явления

Электронные свойства пленок силицена, подвергнутых нейтронному легированию

А. Е. Галашевab, А. С. Воробьевa

a Институт высокотемпературной электрохимии УРО РАН, Екатеринбург, Россия
b Уральский федеральный университет им. первого Президента России Б. Н. Ельцина, г. Екатеринбург

Аннотация: Радиационное легирование фосфором монокристаллического кремния сохраняет структуру образца, снижает внутренние напряжения, повышает время жизни неосновных носителей заряда. Настоящая работа посвящена исследованию влияния добавок фосфора на электронные свойства силицена. Квантово-механическим методом рассчитаны спектры плотности электронных состояний легированного фосфором однослойного и двухслойного силицена 2 $\times$ 2 на графитовой подложке. Присутствие углеродной подложки придает силицену проводниковые свойства вследствие $p$$p$-гибридизации. Легирование фосфором может сохранить или изменить приобретенные силиценом металлические свойства. Местоположение легирующих атомов фосфора в силицене влияет на прохождение перехода полупроводник–проводник. Теоретическая удельная емкость легированного фосфором силиценового электрода снижается, и он становится менее эффективным для применения в литий-ионных батареях. Однако увеличение проводимости этого материала способствует его использованию в качестве солнечных элементов.

Ключевые слова: графит, силицен, фосфор, электронные состояния.

Поступила в редакцию: 02.09.2019
Исправленный вариант: 28.01.2020
Принята в печать: 29.01.2020

DOI: 10.21883/FTP.2020.06.49392.9252


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2020, 54:6, 641–649

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024