Аннотация:
Структуры с наночастицами (квантовыми точками) Ge/Si в матрице оксида алюминия интересны для исследователей благодаря сочетанию двух основных полупроводников, а также использованию матрицы с высокой диэлектрической проницаемостью и сильной связью кислорода с металлом. В работе изготовлены многослойные нанопериодические структуры в последовательности подложка/Al$_{2}$O$_{3}$/Ge/Si/Al$_{2}$O$_{3}$$\dots$ Al$_{2}$O$_{3}$ (период – Al$_{2}$O$_{3}$/Ge/Si, число периодов – до 20), которые затем отжигались при разных температурах. Показано, что после отжига в структурах наблюдаются кристаллические частицы и Ge, и Si, размеры и количество которых определяются толщиной напыленных слоев и температурой отжига. Полученные различными оптическими методиками результаты свидетельствуют о квантово-размерном эффекте в структурах, что подтверждено микроскопией высокого разрешения.
Ключевые слова:многослойные наноструктуры, квантовые точки ядро–оболочка, Ge/Si.
Поступила в редакцию: 24.09.2019 Исправленный вариант: 30.09.2019 Принята в печать: 30.09.2019