RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2020, том 54, выпуск 2, страницы 189–194 (Mi phts5285)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Физика полупроводниковых приборов

Модель влияния смещения затвора при ионизирующем облучении МОП-структур

О. В. Александров, С. А. Мокрушина

Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ» им. В. И. Ульянова (Ленина)

Аннотация: Разработана новая количественная модель влияния смещения затвора при ионизирующем облучении на пороговое напряжение МОП-структур, базирующаяся на учете захвата дырок со всего объема подзатворного диэлектрика в тонком пограничном слое с безводородными и водородосодержащими ловушками на границе с кремниевой подложкой. Модель позволяет удовлетворительно описать плавный рост порогового напряжения с напряжением смещения на затворе – примерно линейный от дозы для поверхностной составляющей и нелинейный для объемной составляющей. Сдвиг порогового напряжения при отрицательном напряжении на затворе моделируется на основе учета генерации дырок в пограничном слое под действием ионизирующего облучения.

Ключевые слова: ионизирующее облучение, МОП-структура, оксидные ловушки, поверхностные состояния, моделирование.

Поступила в редакцию: 25.06.2019
Исправленный вариант: 10.09.2019
Принята в печать: 30.09.2019

DOI: 10.21883/FTP.2020.02.48902.9195


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2020, 54:2, 240–245

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024