RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2020, том 54, выпуск 1, страницы 65–68 (Mi phts5308)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Физика полупроводниковых приборов

Оптимизация толщины слоя In$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As в трехкаскадном In$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As/GaAs/In$_{0.5}$Ga$_{0.5}$P солнечном элементе

Д. М. Леган, О. П. Пчеляков, В. В. Преображенский

Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск

Аннотация: С помощью программного пакета для приборно-технологического моделирования “Sentaurus TCAD” производился поиск оптимальной толщины поглощающего слоя нижнего каскада In$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As трехкаскадного In$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As/GaAs/In$_{0.5}$Ga$_{0.5}$P солнечного элемента в зависимости от времени жизни неосновных носителей заряда в этом слое. Величина времени жизни задавалась в диапазоне от 17 пс до 53 нс. Результаты расчета показали, что в зависимости от величины времени жизни оптимальная толщина принимает различные значения в диапазоне от 0.9 до 7.5 мкм. Также была проведена оценка вклада в кпд данного трехкаскадного солнечного элемента от нижнего In$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As каскада. При различных значениях времен жизни, его величина составила от 1 до 7%.

Ключевые слова: численное моделирование, оптимальная толщина, солнечный элемент, In$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As, Sentaurus TCAD.

Поступила в редакцию: 09.08.2019
Исправленный вариант: 12.08.2019
Принята в печать: 12.08.2019

DOI: 10.21883/FTP.2020.01.48776.9240


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2020, 54:1, 108–111

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024