RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2019, том 53, выпуск 12, страницы 1681–1685 (Mi phts5335)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Углеродные системы

Краевое легирование в графеновых приборах на подложках SiO$_{2}$

Г. Ю. Васильеваa, Д. Смирновb, Ю. Б. Васильевa, А. А. Грешновa, R. J. Haugb

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Institut fur Festkorperphysik, Leibniz Universitat Hannover, Hannover, Germany

Аннотация: Экспериментально изучена проводимость лент монослойного и двухслойного графена шириной 0.5–4 мкм, изготовленных методом плазменного травления в кислороде. Обнаружена зависимость концентрации электронов в графене от ширины ленты. Этот эффект объясняется краевым легированием графена за счет дефектов, расположенных в SiO$_{2}$ вблизи краев ленты. Предложен способ формирования резких $p$$n$-переходов в графене и структур с постоянным градиентом концентрации электронов в плоскости графена с помощью краевого легирования.

Ключевые слова: графен, краевое легирование, подложка, дефекты, плазменное травление.

Поступила в редакцию: 29.04.2019
Исправленный вариант: 06.05.2019
Принята в печать: 06.05.2019

DOI: 10.21883/FTP.2019.12.48627.9151


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2019, 53:12, 1672–1676

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024