RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2019, том 53, выпуск 5, страницы 608–611 (Mi phts5503)

Эта публикация цитируется в 7 статьях

XVI Международная конференция ''Термоэлектрики и их применения" - 2018 (ISCTA 2018), Санкт-Петербург, 8-12 октября 2018 г.

О зонной структуре Bi$_{2}$Te$_{3}$

С. А. Немовabc, Ю. В. Улашкевичd, А. А. Рулимовa, А. Е. Демченкоa, А. А. Аллаххахa, И. В. Свешниковc, М. Б. Джафаровe

a Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого
b Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ» им. В. И. Ульянова (Ленина)
c Забайкальский государственный университет, г. Чита
d Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
e Азербайджанский технический университет, Гянджа, Азербайджан

Аннотация: На кристаллах $p$-Bi$_{2}$Te$_{3}$, выращенных методом Чохральского, измерены температурные зависимости электропроводности, коэффициентов Холла, термоэдс и поперечного эффекта Нернста–Эттингсгаузена в интервале температур 77–450 K и спектр пропускания в диапазоне 400–5250 см$^{-1}$ при комнатной температуре. Показано, что для объяснения температурных зависимостей параметра рассеяния и отношения термоэдс к температуре необходимо учитывать сложное строение валентной зоны и вклад тяжелых дырок в явления переноса. Сделанные оценки зонных параметров в рамках двухзонной модели дают значения эффективной массы дырок порядка массы свободного электрона и энергетического зазора между неэквивалентными экстремумами порядка нескольких сотых эВ. На спектре поглощения, полученном из пропускания, в диапазоне частот $\nu\ge$ 1000 см$^{-1}$ наблюдается резкий подъем поглощения, обусловленный непрямыми межзонными переходами с запрещенной зоной $E_{g}\approx$ 0.14 эВ. Спектр поглощения, рассчитанный из данных по отражению с помощью соотношений Крамерса–Кронига, находится в согласии с измеренным.

Поступила в редакцию: 20.12.2018
Исправленный вариант: 24.12.2018
Принята в печать: 28.12.2018

DOI: 10.21883/FTP.2019.05.47547.05


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2019, 53:5, 603–606

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024