RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2019, том 53, выпуск 2, страницы 273–276 (Mi phts5600)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Исследование возможности изготовления напряженных сверхрешеток InAs/GaSb методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений

Р. В. Левинa, В. Н. Неведомскийa, Н. Л. Баженовa, Г. Г. Зегряa, Б. В. Пушныйa, М. Н. Мизеровb

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Научно-технологический центр микроэлектроники и субмикронных гетероструктур РАН, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Представлены первые результаты исследования возможности изготовления сверхрешеток на основе InAs/GaSb методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений. Экспериментально показана возможность изготовления гетероструктур с напряженной сверхрешеткой типа InAs/GaSb с толщиной слоев 2–4 нм. В спектрах электролюминесценции структур при 77 K наблюдается длинноволновый пик в районе 5 мкм (0.25 эВ), вероятно, связанный с напряженной сверхрешеткой, так как твердые растворы, которые могли бы образоваться на основе составных соединений, не обеспечивают полученную энергию рекомбинации носителей.

Поступила в редакцию: 03.07.2018
Исправленный вариант: 16.07.2018

DOI: 10.21883/FTP.2019.02.47112.8946


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2019, 53:2, 260–263

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024