Слоевое сопротивление TiAlNiAu тонкопленочной металлизации омических контактов к нитридным полупроводниковым структурам

Определена связь геометрии метрического пространства поверхности тонкопленочной металлической TiAlNiAu-системы с геометрией функционального пространства ее слоевых сопротивлений R$_{sq}$. На основе этого описан наблюдающийся в локальном приближении латеральный размерный эффект, который проявляется в зависимости слоевого сопротивления $R_{sq}$ металлической TiAlNiAu-пленки от ее латеральных (в плоскости $(x,y)$) линейных размеров. Зависимость $R_{sq}$ от линейных размеров определяется фрактальной геометрией образующих ее дендритов, а именно – степенной зависимостью изменения линейных размеров от фрактальной размерности $D_{f}$. Обнаруженная закономерность имеет важное практическое значение как для точного расчета значений $R_{sq}$ тонкопленочных металлических систем при проектировании дискретных приборов и интегральных микросхем, так и для контроля результатов технологических процессов получения тонких металлических пленок и систем на их основе на микронном и наноуровнях.