RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2018, том 52, выпуск 12, страницы 1507–1511 (Mi phts5669)

Эта публикация цитируется в 3 статьях

Микро- и нанокристаллические, пористые, композитные полупроводники

Электрические свойства GaAs нитевидных нанокристаллов, выращенных на гибридных подложках графен/SiC

П. А. Алексеевa, М. С. Дунаевскийa, А. О. Михайловa, С. П. Лебедевb, А. А. Лебедевa, И. В. Илькивc, А. И. Хребтовb, А. Д. Буравлевacd, Г. Э. Цырлинbcd

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики
c Санкт-Петербургский национальный исследовательский академический университет Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
d Институт аналитического приборостроения РАН, г. Санкт-Петербург

Аннотация: by 0.6pt Исследовались электрофизические свойства GaAs нитевидных нанокристаллов, выращенных на поверхности (0001) 6H-SiC-подложки, покрытой моно- и бислоями графена. Нитевидные нанокристаллы были выращены методом молекулярно-пучковой эпитаксии с использованием золота в качестве катализатора. Исследование электрофизических свойств производилось путем измерения и анализа вольт-амперных характеристик одиночных нитевидных нанокристаллов, вертикально растущих на подложке. Численное моделирование измеренных вольт-амперных характеристк выявило наличие шоттки-барьера высотой $\sim$0.6 В между нитевидными нанокристаллами и графеном. Возникновение барьера связано с формированием избыточного мышьяка на интерфейсе нитевидный нанокристалл/графен.

Поступила в редакцию: 09.04.2018
Принята в печать: 17.04.2018

DOI: 10.21883/FTP.2018.12.46766.8882


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2018, 52:12, 1611–1615

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024