RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2018, том 52, выпуск 12, страницы 1518–1526 (Mi phts5671)

Эта публикация цитируется в 4 статьях

Физика полупроводниковых приборов

Нарушение локальной электронейтральности в квантовой яме полупроводникового лазера с асимметричными барьерными слоями

Л. В. Асрянa, Ф. И. Зубовb, Ю. С. Балезина (Полубавкина)b, Э. И. Моисеевb, М. Е. Муретоваb, Н. В. Крыжановскаяb, М. В. Максимовb, А. Е. Жуковb

a Virginia Polytechnic Institute and State University Blacksburg, Virginia, USA
b Санкт-Петербургский национальный исследовательский академический университет Российской академии наук, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Разработана самосогласованная модель для расчета пороговых и мощностных характеристик полупроводниковых лазеров на квантовой яме с асимметричными барьерными слоями. Модель, основанная на системе скоростных уравнений, использует универсальное условие глобальной зарядовой нейтральности в лазерной структуре. Рассчитаны концентрации электронов и дырок в волноводной области и в квантовой яме и концентрация фотонов стимулированного излучения. Показано, что локальная нейтральность в квантовой яме сильно нарушена, особенно при высоких токах инжекции. Нарушение нейтральности в квантовой яме приводит к зависимости концентраций электронов и дырок в ней от тока инжекции в режиме лазерной генерации – в рассмотренной нами структуре концентрация электронов в квантовой яме уменьшается, а концентрация дырок увеличивается с ростом тока инжекции. В условиях идеального функционирования асимметричных барьерных слоев, когда имеет место полное подавление электронно-дырочной рекомбинации в волноводной области, нарушение нейтральности в квантовой яме практически не сказывается на зависимости мощности выходного оптического излучения от тока инжекции – квантовая эффективность близка к единице, а ватт-амперная характеристика линейна. Нарушение нейтральности в квантовой яме приводит, тем не менее, к ослаблению температурной зависимости порогового тока и, таким образом, повышению характеристической температуры $T_{0}$ лазера.

Поступила в редакцию: 28.03.2018
Принята в печать: 04.04.2018

DOI: 10.21883/FTP.2018.12.46768.8876


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2018, 52:12, 1621–1629

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024