RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2018, том 52, выпуск 10, страницы 1145–1149 (Mi phts5708)

Эта публикация цитируется в 4 статьях

Микро- и нанокристаллические, пористые, композитные полупроводники

Моделирование уровней размерного квантования Si-нанокристаллов в матрице SiO$_{2}$: подбор параметров эмпирического метода сильной связи

А. В. Белолипецкий, М. О. Нестоклон, И. Н. Яссиевич

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Изучен вопрос оптимального выбора параметров эмпирического метода сильной связи для моделирования уровней размерного квантования кремниевых нанокристаллов, внедренных в аморфную матрицу SiO$_{2}$. Для учета туннелирования из нанокристаллов в SiO$_{2}$ аморфная матрица рассматривалась как виртуальный кристалл с зонной структурой, подобной зонной структуре $\beta$-кристобалита SiO$_{2}$, согласованный по величине постоянной решетки с объемным кремнием. В широком энергетическом интервале вычислены распределения электронной плотности в $\mathbf{k}$-пространстве для электронов и дырок, размерно-квантованных в кремниевом нанокристалле в SiO$_{2}$, что позволяет наглядно увидеть возможность существования эффективных прямых оптических переходов для “горячих” электронов на верхних уровнях размерного квантования.

Поступила в редакцию: 12.03.2018
Принята в печать: 19.03.2018

DOI: 10.21883/FTP.2018.10.46454.8859


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2018, 52:10, 1264–1268

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024