RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2018, том 52, выпуск 10, страницы 1150–1171 (Mi phts5709)

Эта публикация цитируется в 8 статьях

Физика полупроводниковых приборов

Влияние электростатического поля периферии на вентильный фотоэффект в контактах металл-полупроводник с барьером Шоттки

Н. А. Торховabc

a Научно-исследовательский институт полупроводниковых приборов, Томск
b Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники
c Национальный исследовательский Томский государственный университет

Аннотация: Исследования электростатической системы плоских контактов металл-полупроводник с барьером Шоттки выявили нетривиальную зависимость их токовой и вольтовой фоточувствительностей (вентильного фотоэффекта) от формы контактов. Особенности использования вентильного фотоэффекта в таких контактах во многом определяются встроенным электростатическим полем периферии, модуль которого зависит от периметра и площади контактов. Таким образом, повышение эффективности преобразования контактами Шоттки световой энергии в электрическую требует использования методов оптимизации, в основе которых лежат изложенные в данной работе положения физической модели электростатической системы плоских контактов Шоттки с учетом электростатических полей периферии. Эффект “резонанса горячих электронов”, приводящий к увеличению внешней квантовой эффективности фотодиодов с барьером Шоттки, может быть объяснен усилением полевой эмиссии электронов электростатическим полем периферии.

Поступила в редакцию: 20.04.2017
Принята в печать: 04.12.2017

DOI: 10.21883/FTP.2018.10.46455.8620


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2018, 52:10, 1269–1292

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024