RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2018, том 52, выпуск 8, страницы 944–948 (Mi phts5768)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Физика полупроводниковых приборов

Влияние глубоких центров на статистическую задержку микроплазменного пробоя в арсенид-галлиевых светодиодах

В. К. Ионычев, А. А. Шестеркина

Мордовский государственный университет

Аннотация: Проведено исследование статистической задержки пробоя микроплазмы в арсенид-галлиевых светодиодах. Обнаружено существенное влияние глубоких центров на микроплазменный пробой арсенид-галлиевых $p$$n$-переходов. Показано, что при изменении зарядового состояния глубоких центров снижением обратного напряжения на $p$$n$-переходе, статистическая задержка микроплазменного пробоя позволяет оценивать энергетический спектр глубоких уровней в микроплазменном канале. В температурном диапазоне 250–350 K обнаружено влияние трех глубоких уровней и определены их параметры.

Поступила в редакцию: 11.10.2017
Принята в печать: 19.12.2017

DOI: 10.21883/FTP.2018.08.46224.8750


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2018, 52:8, 1072–1076

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024