RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2018, том 52, выпуск 3, страницы 291–294 (Mi phts5886)

Электронные свойства полупроводников

Электрический пробой в чистом $n$- и $p$-Si

В. Ф. Баннаяa, Е. В. Никитинаb

a Московский государственный педагогический университет, Москва
b Российский университет дружбы народов, г. Москва

Аннотация: Представлены результаты расчета зависимостей кинетических коэффициентов ударной ионизации и термической рекомбинации от электрического поля в чистом кремнии. По аналогии с германием рассчитаны зависимости поля электрического пробоя $E_{\operatorname{br}}$ от степени компенсации материала $K$. Дано подробное обоснование правомочности такого расчета. Представлены кривые $E_{\operatorname{br}}(K)$ и проведено сравнение с экспериментальными данными в области слабых компенсаций. Выполнена привязка к экспериментальным результатам, при которой наблюдается удовлетворительное соответствие теории и эксперимента.

Поступила в редакцию: 06.02.2017
Принята в печать: 13.02.2017

DOI: 10.21883/FTP.2018.03.45610.8536


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2018, 52:3, 273–277

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024