RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2018, том 52, выпуск 3, страницы 327–332 (Mi phts5892)

Эта публикация цитируется в 4 статьях

Электронные свойства полупроводников

Образование радиационных дефектов в слабо легированных слоях $n$- и $p$-SiC при торможении протонов

В. В. Козловскийa, А. Э. Васильевa, П. А. Карасевa, А. А. Лебедевb

a Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого
b Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Путем математического моделирования каскада смещения в SiC рассмотрены особенности генерации пар Френкеля при рассеянии протонов с энергией 8 и 15 МэВ. Рассчитаны гистограммы распределения энергий, полученных не только первично выбитыми атомами, но и атомами отдачи, генерируемыми в каскадах смещений. При анализе гистограмм рассмотрены две области энергий. В первой области “малых” энергий преобладает процесс спонтанной рекомбинации генетически родственных пар Френкеля. Атомы отдачи второй области обладают большей энергией, позволяющей покинуть зону спонтанной рекомбинации и диссоциировать на изолированные компоненты. Проведено экспериментальное исследование процесса компенсации слабо легированных образцов $n$- и $p$-4$H$-SiC, выращенных методом газофазовой эпитаксией, при облучении протонами с энергией 8 и15 МэВ. Измерены скорости удаления носителей заряда. Проведено сравнение расчетных и экспериментальных данных и получены оценки размеров зоны спонтанной рекомбинации.

Поступила в редакцию: 09.10.2017
Принята в печать: 18.10.2017

DOI: 10.21883/FTP.2018.03.45616.8741


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2018, 52:3, 310–315

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024