RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2017, том 51, выпуск 12, страница 1587 (Mi phts5956)

XXI Международный симпозиум ''Нанофизика и наноэлектроника'', Нижний Новгород, 13-16 марта 2017 г.

Нитевидные нанокристаллы GaP/Si (111), синтезированные методом молекулярно-пучковой эпитаксии с переключением гексагональной и кубической фазы

И. В. Штромab, Н. В. Сибиревcd, Е. В. Убыйвовкce, Ю. Б. Самсоненкоab, А. И. Хребтовa, Р. Р. Резникab, А. Д. Буравлевab, Г. Э. Цырлинaeb

a Санкт-Петербургский национальный исследовательский академический университет Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Институт аналитического приборостроения РАН, г. Санкт-Петербург
c Санкт-Петербургский государственный университет
d Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого
e Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики

Аннотация: Представлено теоретическое и экспериментальное описание синтеза нитевидных нанокристаллов GaP методом молекулярно-пучковой эпитаксии на подложках Si (111) с использованием золота в качестве катализатора. Отношение потоков осаждаемых материалов и температура подложки кратковременно изменялись в процессе синтеза нитевидных нанокристаллов с целью исследования возможности создания наноразмерных включений различных политипов. Установлено, что изменения отношений потоков осаждаемых материалов и температуры роста приводят к контролируемому образованию включений толщиной в несколько нанометров, в том числе с кубической кристаллической структурой.

Поступила в редакцию: 27.04.2017
Принята в печать: 12.05.2017

DOI: 10.21883/FTP.2017.12.45167.27


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2018, 52:1, 1–5

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024