RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2017, том 51, выпуск 12, страницы 1594–1598 (Mi phts5958)

XXI Международный симпозиум ''Нанофизика и наноэлектроника'', Нижний Новгород, 13-16 марта 2017 г.

Особенности спектров фотовозбуждения эпитаксиальных слоев InN, выращенных методом молекулярно-пучковой эпитаксии с плазменной активацией азота

П. А. Бушуйкинa, А. В. Новиковab, Б. А. Андреевab, Д. Н. Лобановab, П. А. Юнинa, Е. В. Скороходовa, Л. В. Красильниковаba, Е. В. Демидовa, Г. М. Савченкоc, В. Ю. Давыдовc

a Институт физики микроструктур РАН, г. Нижний Новгород
b Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского
c Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Представлены результаты исследования спектров фотовозбуждения эпитаксиальных слоев InN с концентрацией свободных носителей 10$^{18}$–10$^{19}$ см$^{-3}$, сформированных в процессе молекулярно-пучковой эпитаксии с плазменной активацией азота. Спектры фотопроводимости, фотолюминесценции и поглощения демонстрируют сдвиг красной границы межзонных переходов в соответствии с эффектом Бурштейна–Мосса для $n$-InN с различной концентрацией равновесных электронов. Для исследованных образцов наблюдалась абсолютная отрицательная фотопроводимость с наносекундным временем релаксации. Результаты фотоэлектрических, абсорбционных и люминесцентных спектроскопических экспериментов сопоставлены с технологическими параметрами и данными электронной микроскопии.

Поступила в редакцию: 23.04.2017
Принята в печать: 12.05.2017

DOI: 10.21883/FTP.2017.12.45169.31


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2017, 51:12, 1537–1541

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024