RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2017, том 51, выпуск 8, страницы 1014–1017 (Mi phts6055)

XV Международная конференция ''Термоэлектрики и их применения-2016'', Санкт-Петербург, 15-16 ноября 2016 г.

Анизотропия термоэдс в высших силицидах переходных металлов

В. С. Кузнецоваab, В. К. Зайцевa, Ф. Ю. Соломкинa, С. В. Новиковa

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский национальный исследовательский академический университет Российской академии наук, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Применена новая методика измерения анизотропии термоэдс с использованием поликристаллов, основанная на многократном измерении ансамбля микрокристаллов при их случайной ориентации и статистической обработке результатов измерений. С использованием поликристаллов измерена анизотропия термоэдс ряда высших силицидов переходных металлов ($\beta$-FeSi$_{2}$, легированного MnSi$_{1.75}$, ReSi$_{1.75}$, CrSi$_{2}$). В кристаллах $\beta$-FeSi$_{2}$ может возникать очень большая величина анизотропии термоэдс, в кристаллах ReSi$_{1.75}$ возможна термоэдс различного знака, в CrSi$_{2}$ установлена сильная зависимость абсолютной величины термоэдс и ее анизотропии от температурных режимов термообработки. Измерены температурные зависимости электропроводности и термоэдс иголок CrSi$_{2}$. Анизотропия термоэдс в них, так же как и в объемных монокристаллах, сохраняется в широком интервале температур.

Поступила в редакцию: 31.01.2017
Принята в печать: 08.02.2017

DOI: 10.21883/FTP.2017.08.44775.44


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2017, 51:8, 972–975

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024