RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2017, том 51, выпуск 8, страницы 1138–1145 (Mi phts6083)

Эта публикация цитируется в 4 статьях

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Влияние растворителя сульфида аммония на пассивацию поверхности GaSb(100)

М. В. Лебедев, Т. В. Львова, С. И. Павлов, И. В. Седова

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Методами рентгеновской фотоэмиссионной спектроскопии и сканирующей электронной микроскопии исследовано влияние растворителя на химический состав сульфидного слоя, образующегося на поверхности GaSb(100). Обработка поверхности GaSb(100) в растворах сульфида аммония приводит к формированию толстого (несколько десятков нанометров) покрытия, представляющего собой смесь различных бинарных и тройных сульфидов галлия и сурьмы. Обнаружено различие химического состава пассивирующих сульфидных слоев, сформированных в водном и спиртовом растворах сульфида аммония. Отжиг сульфидного слоя при 360$^\circ$C приводит к частичной десорбции сурьмы и распаду тройных сульфидов на бинарные составляющие.

Поступила в редакцию: 17.01.2017
Принята в печать: 15.02.2017

DOI: 10.21883/FTP.2017.08.44803.8517a


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2017, 51:8, 1093–1100

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024