RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2017, том 51, выпуск 4, страницы 551–557 (Mi phts6193)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Гетероэпитаксиальные структуры InAs$_{1-x}$Sb$_{x}$ на градиентных буферных слоях GaInSb и AlGaInSb

P. P. Гусейновa, В. А. Танрывердиевa, G. Kipshidzeb, Е. Н. Алиеваa, Х. В. Алигулиеваa, Н. А. Абдуллаевa, Н. Т. Мамедовa

a Институт физики НАН Азербайджана, Баку, Азербайджан
b Stony Brook University, New York, USA

Аннотация: Получены нерелаксированные слои твердого раствора InAs$_{1-x}$Sb$_{x}$ ($x$ = 0.43 и 0.38) методом молекулярно-лучевой эпитаксии с использованием градиентных буферных слоев GaInSb и AlGaInSb. Высокое качество полученных тонких пленок подтверждается результатами исследований высокоразрешающей рентгеновской дифракции и микро-рамановского рассеяния. Выявлен двухмодовый тип перестройки фононных спектров твердых растворов InAs$_{1-x}$Sb$_{x}$.

Поступила в редакцию: 07.09.2016
Принята в печать: 19.09.2016

DOI: 10.21883/FTP.2017.04.44351.8401


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2017, 51:4, 524–530

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024