RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2017, том 51, выпуск 3, страницы 383–385 (Mi phts6214)

Физика полупроводниковых приборов

Особенности вольт-фарадных характеристик МДП-структуры Cu–SiO$_{2}$$p$-InSb

Р. А. Алиевa, Г. М. Гаджиевa, М. М. Гаджиалиевa, А. М. Исмаиловab, З. Ш. Пирмагомедовa

a Институт физики им. Х. И. Амирханова ДНЦ РАН, Махачкала, Россия
b Дагестанский государственный университет, г. Махачкала

Аннотация: Измерены вольт-фарадные характеристики и проводимость МДП-структур на основе InSb при разных частотах измерительного сигнала с целью изучения влияния условий технологического синтеза на емкостные свойства данных структур. Обсуждается влияние положительного, встроенного в диэлектрик, заряда на измеренные характеристики образца, которое проявляется в виде резкого “переключения” емкости при смене полярности слабополевого внешнего воздействия ($E<$ 10$^{6}$ В/см).

Поступила в редакцию: 25.02.2016
Принята в печать: 25.05.2016

DOI: 10.21883/FTP.2017.03.44212.8220


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2017, 51:3, 367–369

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024