RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2016, том 50, выпуск 8, страницы 1133–1137 (Mi phts6400)

Эта публикация цитируется в 6 статьях

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Фотонно-кристаллический резонатор ближнего ИК диапазона на кремнии: численное моделирование и технология формирования

П. Г. Серафимовичab, М. В. Степиховаcd, Н. Л. Казанскийab, С. А. Гусевcd, А. В. Егоровb, Е. В. Скороходовcd, З. Ф. Красильникdc

a Институт систем обработки изображений РАН, Самара
b Самарский государственный аэрокосмический университет имени академика С. П. Королёва
c Институт физики микроструктур РАН, г. Нижний Новгород
d Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского

Аннотация: Изложена технология изготовления фотонно-кристаллического резонатора, выполненного в виде группы отверстий на кремниевом полосковом волноводе, сформированных методом ионно-лучевого травления. Исследован паразитный эффект, связанный с конусностью отверстий, возникающий при их формировании по данной технологии. Путем численного моделирования показано, что уменьшение добротности резонатора вследствие конусности отверстий можно компенсировать с учетом их объема. Выполнен анализ влияния толщины волновода на значения резонансной длины волны и добротность фотонно-кристаллического резонатора.

Поступила в редакцию: 17.12.2015
Принята в печать: 24.12.2015


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2016, 50:8, 1112–1116

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024