RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2016, том 50, выпуск 7, страницы 979–986 (Mi phts6424)

Эта публикация цитируется в 5 статьях

Физика полупроводниковых приборов

Электрохимическое литирование кремния с разной кристаллографической ориентацией

Е. В. Астрова, А. М. Румянцев, Г. В. Ли, А. В. Нащекин, Д. Ю. Казанцев, Б. Я. Бер, В. В. Жданов

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Для изучения анизотропии внедрения лития в кремниевые аноды литий-ионных аккумуляторов использовались микроструктуры в виде сетки с вертикальными стенками толщиной 0.5 мкм и пластины монокристаллического кремния, имеющие разную ориентацию. Электрохимическое литирование проводилось при комнатной температуре в гальваностатическом режиме. Исследовались зарядные кривые микроструктурных и плоских кремниевых анодов. С помощью вторичной ионной масс-спектрометрии определялось распределение внедренных атомов Li по глубине пластины. Для анализа экспериментальных данных использовалась двухфазная модель, согласно которой процесс литирования лимитируется скоростью продвижения фронта между аморфным сплавом с высоким содержанием Li и кристаллической кремниевой подложкой. Определено соотношение между скоростями внедрения лития в разные кристаллографические плоскости: (110), (111) и (100) $V_{110}:V_{111}:V_{100}$ = 3.1:1.1:1.0. Продемонстрировано, что микроструктурные аноды со стенками (110) имеют наиболее высокий циклический ресурс и при скорости заряда/разряда 0.36 С выдерживают $\sim$600 циклов.

Поступила в редакцию: 09.12.2015
Принята в печать: 17.12.2015


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2016, 50:7, 963–969

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024