RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2016, том 50, выпуск 7, страницы 993–996 (Mi phts6426)

Эта публикация цитируется в 5 статьях

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Квантовые точки в системе InSb/GaSb, выращенные методом жидкофазной эпитаксии

Я. А. Пархоменко, П. А. Дементьев, К. Д. Моисеев

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Мы сообщаем о первых результатах по выращиванию квантовых точек в системе InSb/GaSb методом жидкофазной эпитаксии и исследованию их структурных характеристик методом атомно-силовой микроскопии. Показано, что поверхностная плотность, форма и размеры наноостровков зависят от температуры наращивания и химии поверхности матрицы. Получены массивы квантовых точек InSb на подложках GaSb (001) в интервале температур $T$ = 450–465$^\circ$C, со средними размерами: высота $h$ = 3 нм, продольный размер $D$ = 30 нм и поверхностная плотность 3 $\cdot$ 10$^{9}$ см$^{-2}$.

Поступила в редакцию: 29.12.2015
Принята в печать: 18.01.2016


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2016, 50:7, 976–979

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024