RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2016, том 50, выпуск 6, страницы 767–771 (Mi phts6436)

Эта публикация цитируется в 11 статьях

Электронные свойства полупроводников

Радиационно-индуцированные бистабильные центры с глубокими уровнями в кремниевых $n^{+}$$p$-структурах

С. Б. Ластовскийa, В. П. Маркевичb, А. С. Якушевичa, Л. И. Муринa, В. П. Крыловc

a Научно-практический центр Национальной академии наук Беларуси по материаловедению, Минск, Республика Беларусь
b Университет г. Манчестер, Манчестер, Англия
c Владимирский государственный университет

Аннотация: Методом нестационарной спектроскопии глубоких уровней (DLTS) исследованы электрически активные дефекты в кристаллах кремния $p$-типа, облученных быстрыми электронами и $\alpha$-частицами. Обнаружен и исследован новый радиационно-индуцированный дефект, обладающий свойствами бистабильных центров. После длительного хранения облученных образцов при комнатной температуре либо их кратковременного отжига при $T\sim$ 370 K дефект не проявляет электрической активности в кремнии $p$-типа. Однако в результате последующей инжекции неосновных носителей заряда данный центр переходит в метастабильную конфигурацию с глубокими уровнями у $E_{V}$ + 0.45 эВ и $E_{V}$ + 0.54 эВ. Обратный переход в основную конфигурацию имеет место в диапазоне температур 50–100$^\circ$C и характеризуется энергией активации $\sim$ 1.25 эВ и частотным фактором $\sim$5 $\cdot$ 10$^{15}$ с$^{-1}$. Обнаруженный дефект термически стабилен до $T\sim$ 450 K. Предполагается, что данный дефект может быть либо комплексом собственный межузельный атом кремния-межузельный атом углерода, либо комплексом собственный межузельный атом кремния-межузельный атом бора.

Поступила в редакцию: 01.12.2015
Принята в печать: 08.12.2015


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2016, 50:6, 751–755

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024