RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2016, том 50, выпуск 2, страницы 191–194 (Mi phts6536)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Полупроводниковые структуры, низкоразмерные системы, квантовые явления

Влияние дефектов на кинетику фотолюминесценции структур с квантовыми точками GaN/AlN

И. А. Александровa, К. С. Журавлевb, В. Г. Мансуровa

a Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск
b Новосибирский государственный университет

Аннотация: Исследовано влияние дефектов в барьере AlN на кривые затухания фотолюминесценции структур с квантовыми точками GaN в матрице AlN после импульсного возбуждения. В кривых затухания структур с квантовыми точками обнаружен начальный участок быстрого затухания фотолюминесценции. Сравнение кривых затухания фотолюминесценции структур с квантовыми точками и слоев AlN без квантовых точек показало, что этот участок связан с вкладом полосы фотолюминесценции дефектов матрицы AlN.

Поступила в редакцию: 12.05.2015
Принята в печать: 18.05.2015


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2016, 50:2, 191–194

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024