RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2016, том 50, выпуск 1, страницы 138–142 (Mi phts6575)

Эта публикация цитируется в 7 статьях

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Формирование структур графит/SiC методом термического разложения карбида кремния

М. Г. Мынбаеваab, А. А. Лаврентьевa, К. Д. Мынбаевba

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики

Аннотация: Изучены условия синтеза углеродных покрытий на поверхности пластин карбида кремния (SiC), получаемых методом термического разложения. Исследовано влияние температуры и состава атмосферы отжига образцов на характер структурных свойств получаемых слоев. В результате определены условия, при которых могут быть получены сплошные пленки графита как с поликристаллической, так и с монокристаллической структурой.

Поступила в редакцию: 06.05.2015
Принята в печать: 18.05.2015


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2016, 50:1, 138–142

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024