RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 1985, том 11, выпуск 20, страницы 1248–1251 (Mi pjtf1029)

Акустоэлектронное взаимодействие в слоистой структуре $Li\,Nb\,O_3-a-Si:H$

А. А. Андреев, К. В. Смирнов, Е. И. Теруков, А. Б. Шерман


Поступила в редакцию: 16.07.1985



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024