RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2021, том 47, выпуск 21, страницы 32–35 (Mi pjtf4639)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Молекулярно-пучковая эпитаксия нитевидных нанокристаллов InGaN на подложках SiC/Si(111) и Si(111): сравнительный анализ

В. О. Гридчинab, Р. Р. Резникb, К. П. Котлярab, А. С. Драгуноваac, Н. В. Крыжановскаяac, А. Ю. Серовb, С. А. Кукушкинd, Г. Э. Цырлинabe

a Санкт-Петербургский национальный исследовательский академический университет имени Ж. И. Алфёрова Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский государственный университет
c Национальный исследовательский университет «Высшая школа экономики», Санкт-Петербург, Россия
d Институт проблем машиноведения РАН, г. Санкт-Петербург
e Институт аналитического приборостроения РАН, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Впервые показана возможность выращивания нитевидных нанокристаллов InGaN с высоким содержанием In на подложках SiC/Si(111) и проведен анализ в сравнении с аналогичными структурами на подложке Si(111). Показано, что выращивание на подложке SiC/Si приводит к формированию нитевидных нанокристаллов InGaN с содержанием In на $\sim$10% меньше и большей эффективностью фотолюминесценции (в $\sim$5 раз), чем на Si.

Ключевые слова: InGaN, нитевидные нанокристаллы, молекулярно-пучковая эпитаксия, оптические свойства, спинодальный распад, карбид кремния на кремнии.

Поступила в редакцию: 01.06.2021
Исправленный вариант: 12.07.2021
Принята в печать: 19.07.2021

DOI: 10.21883/PJTF.2021.21.51626.18894



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024