RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2021, том 47, выпуск 14, страницы 26–29 (Mi pjtf4733)

Особенности роста гетероструктур нитрида галлия на подложках кремния: управляемая пластическая деформация

И. С. Езубченко, М. Я. Черных, П. А. Перминов, Ю. В. Грищенко, И. Н. Трунькин, И. А. Черных, М. Л. Занавескин

Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт", г. Москва

Аннотация: Методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений выращены нитрид-галлиевые гетероструктуры на подложках кремния. Обнаружены пластические деформации подложки при температурах 930 – 975$^\circ$C, возникающие в процессе роста при эффективном накоплении сжимающих напряжений в пленке. Предложен способ осуществления управляемой пластической деформации кремния за счет проведения высокотемпературного отжига, совмещенного с ростом in situ слоя SiN$_{x}$, после роста гетероструктуры. Данный подход позволит упростить подбор архитектуры нитрид-галлиевых гетероструктур для различных технологических задач.

Ключевые слова: нитридная гетероструктура, металлоорганическая газофазная эпитаксия, нитрид галлия, кремний, пластическая деформация.

Поступила в редакцию: 12.03.2021
Исправленный вариант: 06.04.2021
Принята в печать: 20.04.2021

DOI: 10.21883/PJTF.2021.14.51183.18766


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2021, 47:10, 705–708

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024