RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2021, том 47, выпуск 12, страницы 31–33 (Mi pjtf4760)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Наноструктурирование при наклонном напылении алюминия

О. С. Трушинa, А. А. Поповa, А. Н. Пестоваa, Л. А. Мазалецкийa, А. А. Акуловb

a Ярославский филиал Физико-технологического института им. К.А. Валиева РАН, Ярославль, Россия
b Ярославский государственный университет им. П.Г. Демидова

Аннотация: Экспериментально обнаружено формирование регулярных массивов наноколонн с высоким аспектным отношением (длина/поперечный размер) в процессе роста тонких пленок Al при наклонном напылении на кремниевую подложку методом электронно-лучевого испарения. Установлено, что оптимальные условия для наноструктурирования реализуются при углах падения испаряемого материала на подложку более 80$^\circ$ (скользящее напыление).

Ключевые слова: пленки алюминия, электронно-лучевое испарение, напыление под углом, эффект затенения, наноструктурирование.

Поступила в редакцию: 01.03.2021
Исправленный вариант: 22.03.2021
Принята в печать: 23.03.2021

DOI: 10.21883/PJTF.2021.12.51064.18748


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2021, 47:8, 617–619

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024